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气液两相体系的搅拌
1.过程特征及分散机理
根据气液接触过程的供气方式，吴忠立式搅拌器，有通气式、自吸式和表面更新式三种类型的气液体
系，而在工业应用中80%以上是采用带通气装置的径向流涡轮搅拌器。
气液搅拌的目的是通过搅拌造成---的气液接触，以形成气泡在液相中均匀分散
后通过所形成的气液界面进行传质，或者是气液相发生化学反应等。
早期研究认为，气液分散是气体直接被搅拌器剪切成细小气泡而形成的。但近年的研
究成果一气穴理论认为:气体并不是直接被搅拌器剪碎而得到的。气泡的分散首先是在桨
叶背面形成较稳定的气穴，气穴在尾部，形成富含小气泡的分散区，立式电动搅拌器，这些气泡在离心力
的作用下被甩出，立式搅拌器厂家，并随液体的流动分散至搅拌釜的其他区域。当气速过大或搅拌转速过低
时，---穴合并，整个搅拌器被气穴包裹，从而达到过载状态，即气体穿过搅拌器直接上升
到液面，立式搅拌器定制，发生气泛现象。立式搅拌器
搅拌设备的基本结构
机械搅拌设备由搅拌容器和搅拌机两大部分组成。搅拌容器包括釜体、外夹套、内构件
以及各种用途开孔接管挡板、盘管、导流筒、气体分布器等
接管、人孔、手孔、视镜等等;搅拌机则包括搅拌器、搅拌轴、轴封、机架及传动装置等部件。
影响搅拌效果的因素
搅拌过程涉及流体的流动、传热和传质，影响因素复杂繁多。表12列出了影响搅拌效
果的各种因素，其中流动状态及物性对各搅拌操作的影响程度见表13。利用此表，可以初
步找出影响给定操作的主要因素，为选择搅拌器型式和操作参数提供了方向立式搅拌器
表观气速v和通气数nav和na的计算式如qgv。qgna(2-6nds式中v—表观气速，m/s;q—通气速率，m/s:a—搅拌设备横截面积，m2;na通气数。涡轮式搅拌器的v一般为0.025-0.04m/s，时可达0.1~0.12m/s。
搅拌设备中气液分散状态在气液搅拌设备中，气体以小气泡的形式分散在液体
中，随搅拌转速和通气速率的变化，分散状态发生转变。描述了在一定的通气速率
下，搅拌转速逐渐增大时出现的气液分散状态的变化情况，可分为三个状态
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